FPD用紫外線(UV)オゾン洗浄装置
| 波長 | 185nm,254nm |
|---|---|
| 用途 | 洗浄・改質 |
| 業界 | FPD製造 |
| 搭載する装置 | FPD用基板洗浄装置 |
FPDを洗浄する場合、エキシマ光を利用した洗浄、大気圧プラズマを応用した洗浄がありますが、UVを用いたオゾン洗浄がなされる場合もあります。UV光源としては水銀ランプが用いられ、オゾンによりFPD表面の有機物を除去します。
オゾン洗浄装置として半導体ウエハ用UVオゾン洗浄装置がありますが、FPD用はウエハ用と比較して高出力が求められます。また、ウエハと比較しFPDは大きく、照射ヘッドには一般的に、ライン型が用いられます。
